特許

J-GLOBAL ID：201103079320729520

塗布膜形成方法および塗布装置

発明者： 高森 秀之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-115553
公開番号（公開出願番号）：特開2001-000909
特許番号：特許第3782281号
出願日： 2000年04月17日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 処理容器内に収容された基板の表面上に、塗布液供給ノズルから塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成方法であって、 基板を載置台に載置して、基板を回転する工程と、 前記塗布液供給ノズルから基板の略中央に塗布液を吐出して、回転する基板の略中央から外縁に向けて塗布液を拡散させる工程と、 この拡散する塗布液の外周の輪郭線の拡がり状態を検出する工程と、 前記検出された輪郭線の拡がり状態において、塗布液の外周の輪郭線を破って形成されたスクラッチパッドが検出された際に、スクラッチパッドの径方向の幅を把握し、この幅が所定値以下になるように、基板の回転速度、前記塗布液供給ノズルからの塗布液の吐出量、および前記塗布液供給ノズルからの塗布液の吐出速度のうち少なくとも1つを制御する工程と を具備することを特徴とする塗布膜形成方法。

IPC (7件)：

B05C 11/10 ( 200 6.01) ,  B05C 5/00 ( 200 6.01) ,  B05C 11/08 ( 200 6.01) ,  B05D 1/40 ( 200 6.01) ,  B05D 7/00 ( 200 6.01) ,  G03F 7/16 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (7件)：

B05C 11/10 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 D

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 回転塗布装置及び回転塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-111749   出願人：富士通株式会社
• 塗布液塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-306925   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-164851   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (3件)

• 回転塗布装置及び回転塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-111749   出願人：富士通株式会社
• 塗布液塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-306925   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-164851   出願人：大日本スクリーン製造株式会社