特許
J-GLOBAL ID:201103080419307430

プラズマ密度情報測定方法、および測定に用いられるプローブ、並びにプラズマ密度情報測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉谷 勉
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-058636
公開番号(公開出願番号):特開2000-100599
特許番号:特許第3497092号
出願日: 1999年03月05日
公開日(公表日): 2000年04月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】プラズマに高周波パワー(高周波電力)を供給するとともに、プラズマ負荷による高周波パワーの反射または吸収状況を示すパラメータの量的測定を、先端が閉じている誘電体製のチューブと、チューブの先端側に収容されて高周波パワーを放射するアンテナと、チューブの後寄りに収容されてアンテナに接続されている高周波パワー伝送用のケーブルとを具備するプラズマ密度情報測定用プローブによって行い、パラメータの測定結果に基づき、プラズマ密度に起因して高周波パワーの強い吸収が起こる周波数、すなわちプラズマ吸収周波数を求出することを特徴とするプラズマ密度情報測定方法。
IPC (4件):
H05H 1/00 ,  C23C 14/34 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46
FI (4件):
H05H 1/00 A ,  C23C 14/34 U ,  H05H 1/46 R ,  H01L 21/302 B
引用特許:
審査官引用 (8件)
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