特許
J-GLOBAL ID：201103081954313534
ポリヒドロキシル化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 馨 (外4名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-203393
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131100
特許番号：特許第3485524号
出願日： 2000年07月05日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一般式(I);;化1::〔式中、R1及びR2は同一又は異なって、水素原子、直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜22のアルキル基もしくはアルケニル基、あるいはアルキル基で置換されていてもよい総炭素数6〜30のアリール基を示し、R1とR2が一緒になって環を形成していてもよい。X はR3O-で示される基又はハロゲン原子を示し、R3は水素原子、直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜23の飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数1〜22の脂肪族アシル基、もしくはアルキル基又はアシル基で置換あるいはケタール又はアセタールで保護されていてもよいグリセリル基を示す。A は炭素数2〜4のアルキレン基を示し、n 個のA は同一でも異なっていてもよい。n はアルキレンオキサイドの平均付加モル数を示す0〜100の数である。但し、n が0の時、X はHO- ではない。〕で表される多価アルコール又はその誘導体の2つの水酸基がケタールまたはアセタールで保護された構造を有する化合物を脱保護(脱ケタール化、脱アセタール化)し、一般式(II);;化2::〔式中、X, A及びn は前記の意味を示す。〕で表されるポリヒドロキシル化合物を製造するに際し、固体酸触媒存在下、水蒸気と接触させることにより脱保護を行なうポリヒドロキシル化合物の製造方法。
IPC (8件)：
C07C 29/10
, B01J 29/04
, C07B 61/00 300
, C07C 31/42
, C07C 41/26
, C07C 43/178
, C07C 67/29
, C07C 69/30
C07C 29/10
, B01J 29/04 X
, C07B 61/00 300
, C07C 31/42
, C07C 41/26
, C07C 43/178
, C07C 67/29
, C07C 69/30
