新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小島隆司 , 西川裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-174945
公開番号（公開出願番号）：特開2000-309611
特許番号：特許第3680920号
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(1)で示されるエステル化合物。;;化1::(式中、R1は水素原子、メチル基又はCH2CO2R14を示す。R2は水素原子、メチル基又はCO2R14を示す。R3は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基を示す。R4〜R13はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜15の1価の炭化水素基又は水素原子の一部が水酸基、アルコキシ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、オキソ基、アミノ基、アルキルアミノ基、シアノ基、メルカプト基、アルキルチオ基若しくはスルホ基に置換された1価の炭化水素基を示し、R4とR5、R6とR8、又はR7とR9は各々互いに環を形成していてもよく、その場合には炭素数1〜15の2価の炭化水素基又は水素原子の一部が水酸基、アルコキシ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、オキソ基、アミノ基、アルキルアミノ基、シアノ基、メルカプト基、アルキルチオ基若しくはスルホ基に置換された2価の炭化水素基を示す。またR4〜R13は隣接する炭素に結合するもの同士で何も介さずに結合し、二重結合を形成してもよい。R14は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。kは0又は1である。また、本式により、鏡像体も表す。)

IPC (7件)：

C07C 69/753 , C08F 34/00 , C08F 220/00 , C08G 61/08 , C08L 65/00 , G03F 7/027 , C09D 167/00

FI (7件)：

C07C 69/753 C , C08F 34/00 , C08F 220/00 , C08G 61/08 , C08L 65/00 , G03F 7/027 , C09D 167/00

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平1-132625
特開平1-197460
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-258836 出願人：富士写真フイルム株式会社

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審査官引用 (7件)

特開平1-132625
特開平1-197460
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-258836 出願人：富士写真フイルム株式会社

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