セラミック絶縁体の洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西川惠清 , 森厚夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-388246
公開番号（公開出願番号）：特開2003-126795
特許番号：特許第3699678号
出願日： 2001年12月20日
公開日（公表日）： 2003年05月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】乾式エッチング装置内の部品である石英系絶縁体またはアルミナ系絶縁体でなるセラミック絶縁体を酸素雰囲気下、600°C〜1300°Cの範囲内にある所定温度で所定時間か焼して絶縁体の汚染物を除去するか焼段階を含むことを特徴とするセラミック絶縁体の洗浄方法。

IPC (2件)：