ArFエキシマレーザのレーザガス、ArFエキシマレーザ及びスキャン式露光機

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-167999
公開番号（公開出願番号）：特開2000-357838
特許番号：特許第4023579号
出願日： 1999年06月15日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ハロゲンガスと希ガスとバッファガスとを含み、レーザチャンバ内に封入されたArFエキシマレーザのレーザガスにおいて、レーザガス中のバッファガスがHeを主成分とし、安定した高いレーザ出力を得るために、レーザガスの希ガスに1〜100ppm のXeを含むことを特徴とするArFエキシマレーザのレーザガス。

IPC (4件)：

H01S 3/225 ( 200 6.01) , G03F 7/20 ( 200 6.01) , G03F 7/23 ( 200 6.01) , H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01S 3/223 E , G03F 7/20 502 , G03F 7/23 H , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 518

引用特許：

審査官引用 (6件)

レーザ媒質ガス交換方法、レーザ媒質ガス排出方法及びガスレーザ装置並びに露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-064113 出願人：株式会社ニコン
露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-027743 出願人：株式会社ニコン
ガス添加剤を含む狭帯域エキシマレーザー
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-289794 出願人：サイマーインコーポレイテッド

全件表示

前のページに戻る