触媒化ハードウェアを使用した水蒸気改質による合成ガスの生成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：清水初志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-559723
特許番号：特許第3790426号
出願日： 1999年07月01日
請求項（抜粋）：

【請求項1】炭化水素供給原料へ触媒による水蒸気改質を施すことによって、水素および一酸化炭素を豊富に含有するガスを生成させる方法であって、 (a)炭化水素供給原料のプロセス・ガスを、水蒸気改質触媒が燃料の燃焼によって加熱される管状反応器に通過させる段階を含み、管状反応器の壁と同じ形状に形成され、該管状反応器の壁に対して直接伝熱関係に配置された、金属支持シートに水蒸気改質触媒が付着する方法。

IPC (2件)：