特許

J-GLOBAL ID：201103083753596107

液晶装置用基板の製造方法

発明者： 石黒 英人 ,  村井 博之
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社 ,  三菱電機株式会社
代理人 (4件)： 渡邊 隆 ,  志賀 正武 ,  実広 信哉 ,  東野 博文
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-085185
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272667
特許番号：特許第3824837号
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ステップ・アンド・リピート型の露光装置を用い、遮光層のパターンが形成されたフォトマスクを基板の表面に配設して複数回の露光を行って当該フォトマスクにより形成される露光領域同士を継ぎ合わせ、次いでフォトリソ加工を行うことにより前記基板の表面に遮光層を形成する第1工程と、 少なくとも前記遮光層が形成されていない部分における基板の表面に複数の画素電極を形成する第2工程とを備え、 前記フォトマスクとして、少なくとも前記遮光層のパターン形成部分の端縁が一直線になっていないものを用いると共に、前記遮光層のパターン形成部分の端縁の周辺部に前記露光装置の解像度未満の大きさで、かつ、該端縁の内側から外側に向って徐々に露光量を低減させる模様が形成されたものを用い、前記露光領域同士の継ぎ合せ境界を重複して露光することを特徴とする液晶装置用基板の製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/1335 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1343 ( 200 6.01) ,  G02F 1/13 ( 200 6.01) ,  G02B 5/00 ( 200 6.01)

FI (4件)：

G02F 1/133 500 ,  G02F 1/134 ,  G02F 1/13 101 ,  G02B 5/00 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• パターン形成方法、一組の露光マスク、薄膜トランジスタマトリクス装置及びその製造方法、液晶表示装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-340027   出願人：富士通株式会社
• 液晶表示装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-360607   出願人：株式会社アドバンスト・ディスプレイ
• フオトマスク及び露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-132585   出願人：株式会社ニコン
• 特開平3-105324