ステージ制御方法、露光方法、露光装置およびデバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西山恵三 , 内尾裕一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-061532
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260696
特許番号：特許第3796367号
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】原版のパターンを介して基板上の領域を走査露光するために、前記原版および前記基板のいずれかを保持したステージの移動を制御するステージ制御方法であって、前記ステージを、走査方向において、目標速度を第1の速度まで増加させて加速する第1の工程と、前記ステージを、前記走査方向において、前記第1の速度を目標速度として走行させる工程であって、当該工程における走査露光期間中に前記走査露光が行われる第2の工程と、前記ステージを、前記走査方向において、目標速度を前記第1の速度からゼロまで減少させて減速する第3の工程と、前記走査露光期間後かつ前記該第3の工程前の期間中、前記走査方向において、前記第1の速度より速い第2の速度を目標速度として前記ステージを移動させる第4の工程とを有し、前記走査露光期間前の前記第1および第2の工程において前記ステージが前記走査方向において走行した助走距離と、前記走査露光期間後の前記第3および第4の工程において前記ステージが前記走査方向において走行したオーバーラン距離とが実質的に等しくなるようにしたことを特徴とするステージ制御方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/22 ( 200 6.01) , H01L 21/68 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/30 516 B , G03F 7/22 H , H01L 21/68 K

引用特許：

審査官引用 (4件)

露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-201946 出願人：株式会社ニコン
露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-274191 出願人：株式会社ニコン
投影露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-257835 出願人：株式会社ニコン

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