特許
J-GLOBAL ID：201103085642440291
走査荷電粒子顕微鏡を用いたパターン形状評価装置およびその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-227238
公開番号（公開出願番号）：特開2011-077299
出願日： 2009年09月30日
公開日（公表日）： 2011年04月14日
要約：
【課題】チルト像には立体的なパターンの様々な輪郭線が存在し、またパターン表面のラフネス等により計測対象外の形状変化に伴うエッジも含まれるため形状認識は複雑になり画像処理による形状計測は容易でない。さらに,パターンの形状評価に適した観察方向を判断することが困難であった。【解決手段】評価対象となるパターンの撮像方向と撮像領域内に含まれる回路パターンの設計データから撮像画像上でのパターンの輪郭線の予想位置(予想輪郭線)を推定し,予想輪郭線と実際の輪郭線との位置ずれ予想範囲を設定し,前記位置ずれ予想範囲を基に画像処理範囲あるいは画像処理方法を設定してパターンの寸法,輪郭線,画像特徴量,三次元形状を算出するようにした。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
走査荷電粒子顕微鏡を用いて半導体デバイスの回路パターンを撮像し,撮像画像から前記回路パターンの形状を評価する装置であって,
評価対象となる回路パターンを含む領域を撮像領域として指定する撮像領域指定手段と,
前記撮像領域指定手段で指定した撮像領域に対して前記走査荷電粒子顕微鏡で照射する荷電粒子の照射方向(撮像方向)を指定する撮像方向指定手段と,
前記撮像領域指定手段で指定した撮像領域を前記撮像方向から撮像して撮像画像を得る撮像手段と,
前記撮像領域指定手段で指定した撮像領域内に含まれる回路パターンの設計データを入力する設計データ入力手段と,
前記撮像手段で撮像して得られる撮像画像上で観測される回路パターンの輪郭線の予想位置(予想輪郭線)を前記設計データ入力手段に入力した設計データと前記撮像方向の情報を用いて算出する予想輪郭線算出手段と,
前記撮像手段で撮像して得られた撮像画像と前記予想輪郭線算出手段で算出した予想輪郭線との対応関係を求める照合手段と,
前記予想輪郭線算出手段で算出した予想輪郭線を基に,前記撮像手段で撮像して得られた撮像画像を処理する画像処理範囲あるいは画像処理方法を設定する画像処理範囲・方法設定手段と,
前記画像処理範囲・方法設定手段で設定した画像処理範囲あるいは画像処理方法に従って前記撮像手段で撮像して得られた撮像画像を処理することによって前記回路パターンの形状を評価する形状評価手段と
を含むことを特徴とする回路パターンの形状評価装置。
IPC (4件)：
H01L 21/66
, H01J 37/22
, H01J 37/28
, G01N 23/225
H01L21/66 J
, H01J37/22 502H
, H01J37/28 B
, G01N23/225
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001CA03
, 2G001GA12
, 2G001HA13
, 2G001LA11
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106CA39
, 4M106DB05
, 4M106DB18
, 4M106DB20
, 4M106DJ19
, 4M106DJ20
, 5C033UU05
, 5C033UU06
, 5C033UU08
