特許
J-GLOBAL ID：201103086279042579

放電プラズマ処理装置

発明者：
内田 岱二郎

内田 岱二郎 について

, 
伊藤 正博

伊藤 正博 について

, 
藤本 秀樹

藤本 秀樹 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (3件)： 浜野 孝雄 ,  森田 哲二 ,  平井 輝一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-329908
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148300
特許番号：特許第3820333号
出願日： 1999年11月19日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】真空チャンバ内に連続して存在する磁場ゼロの位置からなる磁気中性線を形成するようにした磁場発生手段と、この磁場発生手段によって真空チャンバ内に形成された磁気中性線に沿って電場を形成してこの磁気中性線に沿って放電プラズマを発生させる電場発生手段とを有し、真空チャンバ内でプラズマを利用して被処理物を処理するようにした磁気中性線放電プラズマ処理装置において、 プラズマを利用して被処理物の処理の行われる真空チャンバの空間の側方周囲に補助真空チャンバを一体的に連通させて設け、補助真空チャンバの内壁における付着物が真空チャンバの上記空間内へ入り込むのを引き戻すように構成すると共に、磁場発生手段に対する励磁電流を制御して形成される磁気中性線の位置及び大きさを調整できように構成したこと を特徴とする磁気中性線放電プラズマ処理装置。
IPC (1件)：
H05H 1/46 ( 200 6.01)
FI (1件)：
H05H 1/46 L
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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