特許
J-GLOBAL ID:201103087556519120

積層体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 成瀬 勝夫 ,  中村 智廣 ,  佐野 英一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-040828
公開番号(公開出願番号):特開2002-240193
特許番号:特許第4508441号
出願日: 2001年02月16日
公開日(公表日): 2002年08月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 金属箔上に複数層のポリイミド系樹脂層からなる絶縁樹脂層を有する積層体において、積層体の両面に金属箔を有し、絶縁樹脂層は少なくとも1層の線熱膨張係数が30×10-6/°C以下の低熱膨張性ポリイミド系樹脂層(A)と、少なくとも1層のガラス転移温度が300°C以下のポリイミド系樹脂層(B)を有し、金属箔と接する層がガラス転移温度300°C以下のポリイミド系樹脂層(B)であり、ここで、 ポリイミド系樹脂層(B)が、ジアミノ化合物とテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られるポリイミド系樹脂からなるものであり、使用するテトラカルボン酸二無水物の50モル%以上が、ピロメリット酸二無水物、3,4,3',4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,4,3',4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物及び下記一般式(1)で示されるテトラカルボン酸二無水物から選ばれる1種又は2種以上のテトラカルボン酸二無水物であり、使用するジアミノ化合物の50モル%以上が、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、2,4-ジアミノトルエン、1,3-ビス-(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'-ジアミノ-2'-メトキシベンズアニリド、3,4'-ジアミノジフェニルエーテル及び下記一般式(2)に示されるジアミノ化合物から選ばれる1種又は2種以上のジアミノ化合物であり、 金属箔と接するポリイミド系樹脂層(B)と金属箔との接着力が0.5kN/m以上であり、且つ絶縁樹脂層の80°C、50wt%水酸化カリウム水溶液によるエッチング速度の平均値が0.5μm/min以上であり、ポリイミド系樹脂層(B)又は金属箔の片面と直接接するポリイミド系樹脂層の上記エッチング速度の平均値が0.5μm/min以上であり、 そして、ポリイミド系樹脂層(A)の上記エッチング速度が6μm/min以上であり、ポリイミド系樹脂層(A)のエッチング速度がポリイミド系樹脂層(B)のエッチング速度の2.0〜20倍の範囲であることを特徴とする積層体。 (式中、Xは置換基を有し得る炭素数2〜30の直鎖状又は分岐状の2価の脂肪族炭化水素基を表す。) (式中、Z〜Z3は独立に水素原子、炭素数が1〜3のアルキル基を表し、同一でも異なるものであってもよい。また、Yは置換基を有し得る炭素数が1〜5の直鎖状又は分岐状の2価の脂肪族炭化水素基を表す。)
IPC (2件):
B32B 15/088 ( 200 6.01) ,  B32B 15/08 ( 200 6.01)
FI (2件):
B32B 15/08 R ,  B32B 15/08 J
引用特許:
審査官引用 (4件)
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