特許
J-GLOBAL ID:201103087846022009

薄膜形成装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 稲葉 良幸 ,  田中 克郎 ,  大賀 眞司
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-105807
公開番号(公開出願番号):特開2000-302592
特許番号:特許第3845856号
出願日: 1999年04月13日
公開日(公表日): 2000年10月31日
請求項(抜粋):
【請求項1】微細端を有する電極により試料表面に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、 前記微細端を有する第1の電極と、 試料を任意の電位に保持する第2の電極と、 前記第1の電極と試料との相対位置を調整する搬送手段と、 所定の有機溶媒が含まれた溶液中に前記試料を浸す手段と、 前記第1の電極および第2の電極間に所定の電圧を印加する印加手段と、 前記搬送手段により前記第1の電極と試料との距離を一定距離以下に設定し、かつ、前記電極と試料との相対位置を変化させながら、前記印加手段により前記第1の電極と第2の電極との間に電圧を印加させる制御手段と、を備えたことを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (1件):
C30B 29/04 ( 200 6.01)
FI (1件):
C30B 29/04 U
引用特許:
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る