【請求項1】一般式(III):
[式中、R16は水素原子、置換されていてもよい低級アルキル、カルボキシ、低級アルキルオキシカルボニル、ハロゲン、または置換されていてもよいアミノカルボニル;
R17、R18、R19、R20、およびR21はそれぞれ独立して水素原子、置換基群Bから選択される1以上の置換基によって置換されていてもよいアルキル、シクロアルキル、置換基群Bから選択される1以上の置換基によって置換されていてもよいアルキルオキシ、アルキルチオ、ハロゲン、置換基群Cから選択される1以上の置換基によって置換されていてもよいフェニル、置換基群Cから選択される1以上の置換基によって置換されていてもよいヘテロアリール、または置換基群Cから選択される1以上の置換基によって置換されていてもよい非芳香族複素環基、
置換基群B:ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロゲン、カルボキシ、低級アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、置換されていてもよいアミノ、置換基群Cから選択される1以上の置換基によって置換されていてもよいフェニル、非芳香族複素環基、およびヘテロアリール、
置換基群C:ヒドロキシ、アルキル、ハロゲン、ハロ低級アルキル、カルボキシ、低級アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシ、置換されていてもよいアミノ、非芳香族複素環、およびヘテロアリール;
R16およびR17は一緒になって-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-OCH2-、または-SCH2-を形成してもよい;
R31およびR32はそれぞれ独立して、水素原子、低級アルキル、ハロゲン、ハロ低級アルキル、低級アルキルオキシ、ハロ低級アルキルオキシ、またはヒドロキシ;
W3は式:
(式中、R13は水素原子、低級アルキル、低級アルキルオキシ、低級アルキルチオ、またはハロゲン;
R14およびR15はそれぞれ独立して水素原子、またはそれぞれ以下の置換基群Aにより置換されていてもよい低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、もしくは非芳香族複素環基;
置換基群A:ハロゲン、ハロ低級アルキル、置換されていてもよいアミノ、カルボキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルシリル、または低級アルキルオキシ;
R24は水素原子または低級アルキル;
R25は低級アルキル、置換されていてもよいアリール、または置換されていてもよい非芳香族複素環;
A3はヘテロアリール)で表わされる基]で示される化合物、もしくはそれらの製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
C07D 277/20 ( 200 6.01)
, C07D 277/46 ( 200 6.01)
, C07D 277/60 ( 200 6.01)
, C07D 417/04 ( 200 6.01)
, C07D 417/12 ( 200 6.01)
, A61K 31/426 ( 200 6.01)
, A61K 31/427 ( 200 6.01)
, A61K 31/428 ( 200 6.01)
, A61K 31/4439 ( 200 6.01)
, A61K 31/5377 ( 200 6.01)
, A61P 7/00 ( 200 6.01)
, A61P 43/00 ( 200 6.01)
