特許
J-GLOBAL ID：201103088429115475
化学機械研磨用水系分散体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 清路
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331504
公開番号（公開出願番号）：特開2001-152135
特許番号：特許第4151178号
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】重合体粒子の水系分散体Aと無機粒子の水系分散体Bとを、上記重合体粒子のゼータ電位と上記無機粒子のゼータ電位とが同符号となるpH域で混合して、上記重合体粒子及び上記無機粒子を含有する水系分散体Cを調製した後、
上記水系分散体CのpHを、上記重合体粒子のゼータ電位と上記無機粒子のゼータ電位とが逆符号となるように変化させ、上記重合体粒子と上記無機粒子とからなる複合粒子を形成することを特徴とする化学機械研磨用水系分散体の製造方法。
IPC (3件)：
C09K 3/14 ( 200 6.01)
, B24B 37/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
C09K 3/14 550 D
, C09K 3/14 550 C
, C09K 3/14 550 Z
, B24B 37/00 H
, H01L 21/304 622 D
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (2件)
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