特許

J-GLOBAL ID：201103089001269911

加熱処理装置

発明者： 立山 清久
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-047513
公開番号（公開出願番号）：特開2001-237172
特許番号：特許第4049504号
出願日： 2000年02月24日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板を載置面に載置して前記基板を加熱処理する加熱プレートと、 静電気を除去する性質を有する蒸気を前記基板と前記加熱プレートとの接触面間に供給するための機構とを備え、 前記加熱プレートが、ヒータが埋設された下段部と、前記蒸気または前記蒸気を発生させる溶媒が供給される流路が形成された中段部と、前記基板と直接に接する上段部とから構成され、 前記流路に連通して形成された流出孔から、前記上段部において前記流出孔に連通して形成された吐出孔を経て、前記蒸気が吐出され、 前記中段部が保水体からなり、前記保水体に前記蒸気を発生させる溶媒を浸透させて蒸発させることにより、前記上段部から前記蒸気を吐出させることを特徴とする加熱処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/30 ( 200 6.01) ,  G03F 7/38 ( 200 6.01) ,  H05B 3/68 ( 200 6.01)

FI (6件)：

H01L 21/30 566 ,  H01L 21/30 571 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/38 511 ,  H05B 3/68

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-024050   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• フォトマスクおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-223941   出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198399   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-024050   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• フォトマスクおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-223941   出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198399   出願人：大日本スクリーン製造株式会社