特許
J-GLOBAL ID:201103089632624942
交互ドナーアクセプターコポリマー系の高性能で溶液加工可能な半導体ポリマー
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
江藤 聡明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-515441
公開番号(公開出願番号):特表2011-528383
出願日: 2009年06月30日
公開日(公表日): 2011年11月17日
要約:
下記式(I)の基を繰返単位として含み、数平均分子量Mnが30〜70g/molの範囲にあるベンゾチアジアゾール-シクロペンタジチオフェンコポリマー: 【化1】式中、Rはn-ヘキサデシルまたは3,7-ジメチルオクチルである。 本発明はまた、上記コポリマーの、半導体または電荷移動材料としての、薄膜トランジスタ(TFT)としての、または有機発光ダイオード(OLED)用半導体部品中での、太陽電池部品用の、またはセンサー中での、電池の電極材料としての、光導波路としての、あるいは電子写真用途用の利用に関する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(I)の基
IPC (6件):
C08G 61/12
, H01M 14/00
, G03G 5/06
, H01L 51/05
, H01L 51/30
, H01L 29/786
FI (6件):
C08G61/12
, H01M14/00 P
, G03G5/06 315B
, H01L29/28 100A
, H01L29/28 250G
, H01L29/78 618B
Fターム (34件):
2H068AA20
, 2H068BA16
, 4J032BA02
, 4J032BA04
, 4J032BA12
, 4J032BA20
, 4J032BB05
, 4J032BB09
, 4J032BC03
, 4J032CG01
, 5F110AA05
, 5F110BB01
, 5F110BB05
, 5F110BB09
, 5F110BB20
, 5F110CC07
, 5F110DD05
, 5F110EE08
, 5F110FF02
, 5F110FF36
, 5F110GG05
, 5F110GG06
, 5F110GG25
, 5F110GG28
, 5F110GG29
, 5F110GG42
, 5F110GG58
, 5F110HK02
, 5F110HK32
, 5H032AA06
, 5H032AS16
, 5H032AS19
, 5H032BB05
, 5H032EE04
引用特許: