特許
J-GLOBAL ID：201103089632624942

交互ドナーアクセプターコポリマー系の高性能で溶液加工可能な半導体ポリマー

発明者：
カストラー,マルセル

カストラー,マルセル について

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ケーラー,ズィルケ

ケーラー,ズィルケ について

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ミュレン,クラウス

ミュレン,クラウス について

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チョー,ドン

チョー,ドン について

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ツァオ,ホイ ノク

ツァオ,ホイ ノク について


出願人/特許権者：
ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア

ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア について

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マクス-プランク-ゲゼルシャフト、ツール、フェルデルング、デァ、ヴィセンシャフテン、イー、ファウ

マクス-プランク-ゲゼルシャフト、ツール、フェルデルング、デァ、ヴィセンシャフテン、イー、ファウ について


代理人 (1件)： 江藤 聡明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-515441
公開番号（公開出願番号）：特表2011-528383
出願日： 2009年06月30日
公開日（公表日）： 2011年11月17日
要約：
下記式(I)の基を繰返単位として含み、数平均分子量Mnが30〜70g/molの範囲にあるベンゾチアジアゾール-シクロペンタジチオフェンコポリマー: 【化1】式中、Rはn-ヘキサデシルまたは3,7-ジメチルオクチルである。 本発明はまた、上記コポリマーの、半導体または電荷移動材料としての、薄膜トランジスタ(TFT)としての、または有機発光ダイオード(OLED)用半導体部品中での、太陽電池部品用の、またはセンサー中での、電池の電極材料としての、光導波路としての、あるいは電子写真用途用の利用に関する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(I)の基
IPC (6件)：
C08G 61/12 ,  H01M 14/00 ,  G03G 5/06 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/30 ,  H01L 29/786
FI (6件)：
C08G61/12 ,  H01M14/00 P ,  G03G5/06 315B ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 250G ,  H01L29/78 618B
Fターム (34件)：
2H068AA20 ,  2H068BA16 ,  4J032BA02 ,  4J032BA04 ,  4J032BA12 ,  4J032BA20 ,  4J032BB05 ,  4J032BB09 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01 ,  5F110AA05 ,  5F110BB01 ,  5F110BB05 ,  5F110BB09 ,  5F110BB20 ,  5F110CC07 ,  5F110DD05 ,  5F110EE08 ,  5F110FF02 ,  5F110FF36 ,  5F110GG05 ,  5F110GG06 ,  5F110GG25 ,  5F110GG28 ,  5F110GG29 ,  5F110GG42 ,  5F110GG58 ,  5F110HK02 ,  5F110HK32 ,  5H032AA06 ,  5H032AS16 ,  5H032AS19 ,  5H032BB05 ,  5H032EE04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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