特許
J-GLOBAL ID:201103089632624942

交互ドナーアクセプターコポリマー系の高性能で溶液加工可能な半導体ポリマー

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江藤 聡明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-515441
公開番号(公開出願番号):特表2011-528383
出願日: 2009年06月30日
公開日(公表日): 2011年11月17日
要約:
下記式(I)の基を繰返単位として含み、数平均分子量Mnが30〜70g/molの範囲にあるベンゾチアジアゾール-シクロペンタジチオフェンコポリマー: 【化1】式中、Rはn-ヘキサデシルまたは3,7-ジメチルオクチルである。 本発明はまた、上記コポリマーの、半導体または電荷移動材料としての、薄膜トランジスタ(TFT)としての、または有機発光ダイオード(OLED)用半導体部品中での、太陽電池部品用の、またはセンサー中での、電池の電極材料としての、光導波路としての、あるいは電子写真用途用の利用に関する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(I)の基
IPC (6件):
C08G 61/12 ,  H01M 14/00 ,  G03G 5/06 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/30 ,  H01L 29/786
FI (6件):
C08G61/12 ,  H01M14/00 P ,  G03G5/06 315B ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 250G ,  H01L29/78 618B
Fターム (34件):
2H068AA20 ,  2H068BA16 ,  4J032BA02 ,  4J032BA04 ,  4J032BA12 ,  4J032BA20 ,  4J032BB05 ,  4J032BB09 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01 ,  5F110AA05 ,  5F110BB01 ,  5F110BB05 ,  5F110BB09 ,  5F110BB20 ,  5F110CC07 ,  5F110DD05 ,  5F110EE08 ,  5F110FF02 ,  5F110FF36 ,  5F110GG05 ,  5F110GG06 ,  5F110GG25 ,  5F110GG28 ,  5F110GG29 ,  5F110GG42 ,  5F110GG58 ,  5F110HK02 ,  5F110HK32 ,  5H032AA06 ,  5H032AS16 ,  5H032AS19 ,  5H032BB05 ,  5H032EE04
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
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