特許
J-GLOBAL ID：201103089814094175

基板メッキ装置

発明者：
溝畑 保▲廣▼

溝畑 保▲廣▼ について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-283627
公開番号（公開出願番号）：特開2002-097599
特許番号：特許第3886328号
出願日： 2000年09月19日
公開日（公表日）： 2002年04月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板の処理面の周辺部をマスク部材でマスクしてこの基板を支持する基板支持部と、前記基板支持部に支持された基板の処理面を下方に向けた状態で当該処理面にメッキ液を接触させてこの処理面をメッキ処理するメッキ処理部とを有する基板メッキ装置において、 前記メッキ処理部でメッキ処理された基板を、前記基板支持部に支持された状態のまま洗浄手段に移送するように、前記基板支持部と前記洗浄手段とを相対的に移動させる移動手段を備え、 前記移動手段は、前記基板支持部に支持された基板の処理面を上方と下方とに切り換えて向けるように前記基板支持部を反転させる反転機構部を有し、 前記洗浄手段は、前記メッキ処理部の上方の位置に設けられ、 前記移動手段は、メッキ処理後に、前記基板支持部に支持された基板をメッキ液から離間させた反転位置で、前記基板支持部に支持された基板の処理面を上方に向けるように前記反転機構部により前記基板支持部を反転させ、 前記洗浄手段は、前記基板支持部に支持された基板の処理面とマスク部材とに洗浄液を供給して、基板の周辺部を前記マスク部材でマスクした状態のままで基板の処理面とマスク部材とを洗浄する ことを特徴とする基板メッキ装置。
IPC (3件)：
C25D 21/08 ( 200 6.01) ,  C25D 17/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/288 ( 200 6.01)
FI (4件)：
C25D 21/08 ,  C25D 17/00 B ,  C25D 17/00 K ,  H01L 21/288 E
引用特許：
審査官引用 (4件)
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