特許
J-GLOBAL ID：201103089982340815
電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-219253
公開番号（公開出願番号）：特開2002-040656
特許番号：特許第4149122号
出願日： 2000年07月19日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)電子線又はX線の照射により、ラジカル種を発生する、下記一般式(I)〜(III)で表される化合物、
(B)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、
(C)ラジカルにより重合可能な不飽和結合を少なくとも1個有する化合物、
を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。
一般式(I)〜一般式(III)中、
R1〜R37は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、または、-S-R38で示すことができる基である。R38は、アルキル基、又はアリール基である。R1〜R15で示す基、R16〜R27で示す基、R28〜R37で示す基は、各々それらのうちの2つ以上が結合し、環を形成していてもよい。
X-は、アリールスルホン酸アニオンを表す。
IPC (8件)：
G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/033 ( 200 6.01)
, G03F 7/027 ( 200 6.01)
, C08F 2/44 ( 200 6.01)
, C08F 2/54 ( 200 6.01)
, C08F 290/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/038 501
, G03F 7/038 502
, G03F 7/038 601
, G03F 7/004 503 Z
, G03F 7/033
, G03F 7/027
, C08F 2/44 C
, C08F 2/54
, C08F 290/00
, H01L 21/30 502 R
