特許
J-GLOBAL ID：201103090198004475
安定なフリーラジカルの存在下での乳化重合
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
越場 隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-229995
公開番号（公開出願番号）：特開2000-044610
特許番号：特許第4355402号
出願日： 1999年07月12日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】pH7以下で、安定なフリーラジカルの存在下で重合可能な少なくとも1種のモノマーを乳化重合する方法であって、
安定なフリーラジカルが下記〔化1〕の結合を有し:
[ここで、RL基は40〜450のモル質量を有し、下記〔化2〕の化学式で表され:
(ここで、R11とR12はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリール基、アラルキルオキシ基、ペルフルオロアルキル基、アラルキル基またはハロゲン基を表し、互いに同一でも異なっていてもよい)]
乳化重合は乳化剤の存在下で行い、エマルションは少なくとも50重量%の水を含む連続液体水相と分散した液体有機相とで構成され、重合の各瞬間に全未重合モノマーの少なくとも50重量%の未重合モノマーが液体有機相中に存在することを特徴とする方法。
IPC (4件)：
C08F 2/22 ( 200 6.01)
, C08F 2/40 ( 200 6.01)
, C08F 20/10 ( 200 6.01)
, C08L 33/04 ( 200 6.01)
C08F 2/22
, C08F 2/40
, C08F 20/10
, C08L 33/04
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)
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