現像処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-255113
公開番号（公開出願番号）：特開2002-075821
特許番号：特許第3926544号
出願日： 2000年08月25日
公開日（公表日）： 2002年03月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を載置して保持する保持手段と、前記保持手段に保持された基板に所定の現像液を供給する現像液供給機構と、を具備する現像処理装置であって、前記現像液供給機構は、所定の現像液を吐出する複数の現像液吐出ノズルと、前記複数の現像液吐出ノズルを保持する1つのノズル保持アームと、前記ノズル保持アームと前記複数の現像液吐出ノズルとの間に設けられ、前記複数の現像液吐出ノズルの高さを個別に調節可能な昇降機構と、を有し、前記昇降機構は、現像処理の際に、前記複数の現像液吐出ノズルのうち、使用する一の現像液吐出ノズルを下方位置に位置させ、使用しない他の現像液吐出ノズルを前記ノズル保持アームに近接した上方位置に位置させ、その状態で、前記一の現像液吐出ノズルのみから所定の現像液を基板に供給することを特徴とする現像処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/30 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/30 569 C , G03F 7/30 501

引用特許：

審査官引用 (4件)

回転基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-329116 出願人：株式会社日立製作所
特開平1-302725
半導体基板現像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-248672 出願人：日本電気株式会社

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