特許
J-GLOBAL ID：201103091289507646
半導体装置の生産システム
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
青山 葆
, 山崎 宏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-273521
公開番号（公開出願番号）：特開2003-086480
特許番号：特許第4048040号
出願日： 2001年09月10日
公開日（公表日）： 2003年03月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】半導体素子を搭載する基台を搭載する基台ホルダと、
この基台ホルダを直線状に移動させる直線状のレールと、
このレールの所定の投入位置に達した基台ホルダから基台を取り出して、この基台に対する工程処理を行う工程処理装置まで上記基台を移動させる第1基台移動手段と、
上記工程処理装置で処理した基台を、上記工程処理装置から上記レールの排出位置にある基台ホルダに移す第2基台移動手段と、
上記第1基台移動手段が上記投入位置にある基台ホルダから上記工程処理装置へ上記基台を移動させて上記投入位置にある基台ホルダが空になると共に上記基台が上記工程処理装置で処理されて上記第2基台移動手段によって上記工程処理装置から上記レールの排出位置にある基台ホルダに移されてから、上記投入位置にある上記基台ホルダを上記直線状のレールに沿って上記排出位置に移動させる手段とを備えたことを特徴とする半導体装置の生産システム。
IPC (2件)：
H01L 21/02 ( 200 6.01)
, H01L 21/50 ( 200 6.01)
H01L 21/02 Z
, H01L 21/50 B
, H01L 21/50 C
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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