ウェットエッチング用基板、およびその用途

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：酒井一 , 蔵合正博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-266853
公開番号（公開出願番号）：特開2011-111636
出願日： 2009年11月24日
公開日（公表日）： 2011年06月09日
要約：

【課題】熱ナノインプリント法における熱可塑性高分子の剥がれや、ウェットエッチング液やめっき液の、レジスト内や金属層とレジストとの界面への浸入を抑制する基板を提供する。【解決手段】基板層1、金属酸化物表面を有する金属層2、下記式に示す、紫外線照射により接着性を発現する感紫外線化合物層3、および熱可塑性高分子層4とをこの順で有する。(R1〜R3:H、C1〜6の炭化水素基等、X:O、OCO、COO、NH、NHCO、m:1〜20、R4:C1〜3の炭化水素基、Y:C1〜3のアルコキシ基、ハロゲン原子、n:1〜3。)【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板層、金属酸化物表面を有する金属層、式(1)に示す感紫外線化合物層、および熱可塑性高分子層とをこの順で有するウェットエッチング用基板。

IPC (8件)：

C23F 1/00 , G03F 7/20 , H01L 21/027 , H01L 21/306 , C25D 5/02 , H05K 3/06 , B32B 9/00 , B32B 15/04

FI (9件)：

C23F1/00 102 , G03F7/20 501 , H01L21/30 502D , H01L21/306 F , C25D5/02 E , H05K3/06 H , H05K3/06 E , B32B9/00 Z , B32B15/04 Z

Fターム (75件)：

2H097AA20 , 4F100AA17B , 4F100AA19A , 4F100AA19D , 4F100AA34A , 4F100AB11A , 4F100AG00A , 4F100AK01C , 4F100AK01D , 4F100AK02D , 4F100AK11D , 4F100AK12D , 4F100AK33A , 4F100AK41A , 4F100AK49A , 4F100AK52C , 4F100AK53A , 4F100AK54A , 4F100AT00A , 4F100BA04 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10D , 4F100EJ15 , 4F100EJ54 , 4F100GB43 , 4F100JB01 , 4F100JB14C , 4F100JB16C , 4F100JL11 , 4K024AA02 , 4K024AA03 , 4K024AA05 , 4K024AA07 , 4K024AA09 , 4K024AA10 , 4K024AA11 , 4K024AA12 , 4K024AB08 , 4K024BB09 , 4K024BB11 , 4K024DA10 , 4K024FA06 , 4K024GA16 , 4K057WA20 , 4K057WB01 , 4K057WB04 , 4K057WB05 , 4K057WB07 , 4K057WB08 , 4K057WB15 , 4K057WC06 , 4K057WC10 , 4K057WE02 , 4K057WE08 , 4K057WK10 , 4K057WN01 , 4K057WN02 , 4K057WN03 , 5E339BC02 , 5E339BE05 , 5E339BE13 , 5E339CD01 , 5E339CE11 , 5E339DD04 , 5E339GG02 , 5F043AA24 , 5F043AA25 , 5F043AA26 , 5F043BB16 , 5F043BB17 , 5F043BB18 , 5F043EE07 , 5F046AA28 , 5F146AA28

引用特許：

審査官引用 (4件)

チオール基含有感紫外線化合物および、その用途
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-118081 出願人：国立大学法人東京工業大学, 日油株式会社
プリント回路用銅張積層板とその接着剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-164143 出願人：日本電解株式会社
銅張積層板とそれを用いたプリント回路板およびこれらの製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-122587 出願人：日本電解株式会社

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