特許
J-GLOBAL ID：201103092080538958
レーザ熱処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
高橋 省吾
, 稲葉 忠彦
, 村上 加奈子
, 中鶴 一隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-090439
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286195
特許番号：特許第3908405号
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】Nd:YAG、Nd:ガラス、Nd:YLF、Yb:YAG、Yb:ガラスの何れか1つを励起媒質とする、Qスイッチ発振固体レーザの第2高調波をパルスレーザ光源として発生するパルスレーザビームを、線状ビームにすると共に、この線状ビームの幅方向にエネルギー密度勾配部を有し、その勾配部のエネルギー密度勾配の最大値が3mJ/cm2/μm以上の部分を有するほぼガウス分布状またはほぼトップフラット状のエネルギー密度分布形状に成形して、基板上に形成された基板上非晶質珪素膜材料に照射し、当該膜材料の上記珪素膜の深さ方向全体に線状に溶融させるとともに、上記線状ビームの幅方向に温度勾配を形成して当該幅方向に上記膜材料を結晶成長させ、上記各パルスレーザビームの照射位置の変化がビーム幅より短くなるように、当該パルスレーザビームを上記幅方向に移動して同一箇所に複数回照射することを特徴とするレーザ熱処理方法。
IPC (4件)：
H01L 21/20 ( 200 6.01)
, H01L 21/268 ( 200 6.01)
, H01L 21/336 ( 200 6.01)
, H01L 29/786 ( 200 6.01)
H01L 21/20
, H01L 21/268 J
, H01L 29/78 627 G
