化学蒸着装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：鈴木正次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-337763
公開番号（公開出願番号）：特開2001-152344
特許番号：特許第4635266号
出願日： 1999年11月29日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】排気系を有する真空容器と、真空容器内の所定の位置に処理される基板を保持する基板ホルダーと、当該基板を所定温度に加熱する加熱手段と、当該基板に対向する位置に原料ガス導入口を有していて、加熱された当該基板の表面に原料ガスを供給する原料ガス供給系とを備え、更に、以下の特徴を備えた液体原料を気化して前記基板上に銅薄膜を形成する化学蒸着装置。イ)原料ガス供給系の前記原料ガス導入口は、その中心軸が前記処理される基板の中心と同軸上になる位置に配置されていて、当該原料ガス導入口に前記処理される基板側に向けて徐々に拡径しつつ開口しているガス供給室が連設されており、ロ)当該ガス供給室の前記基板に対向している内面は、前記原料ガス導入口の中心軸上に頂点を有する円錐の傾斜面を成し、ハ)前記ガス導入口の内径の、処理される基板の直径に対する比は1/12乃至1/8であり、ニ)前記ガス供給室の前記基板に対向している内面に、複数の孔が穿設されている円盤状で前記基板と同等の大きさを有するガス整流板が、前記基板に対向して取り付けられており、前記ガス整流板に穿設されている複数の孔のコンダクタンスは、前記ガス導入口におけるコンダクタンスの1/2〜1/3である。

IPC (2件)：

C23C 16/455 ( 200 6.01) , H01L 21/285 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C23C 16/455 , H01L 21/285 C , H01L 21/285 301

引用特許：

出願人引用 (5件)

化学蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-231513 出願人：アネルバ株式会社
特開昭63-083275
特開昭63-297563

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審査官引用 (5件)

化学蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-231513 出願人：アネルバ株式会社
特開昭63-083275
特開昭63-297563

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