特許

J-GLOBAL ID：201103092442773004

光学薄膜の製造方法及びその薄膜形成装置

発明者： 鈴木 康之 ,  安藤 謙二 ,  大谷 実 ,  枇榔 竜二 ,  金沢 秀宏
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (4件)： 宮崎 昭夫 ,  金田 暢之 ,  石橋 政幸 ,  伊藤 克博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-102955
公開番号（公開出願番号）：特開2000-297366
特許番号：特許第3825936号
出願日： 1999年04月09日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 金属ターゲットを用い、少なくともフッ素を含むガスで反応性スパッタを行うことにより、基板上に金属フッ化薄膜を形成する薄膜形成方法において、フッ素を含むガスに加えてH2OガスまたはH2ガスの両方もしくはいずれか一方を導入してスパッタを行うことを特徴とするフッ化物薄膜の形成方法。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ( 200 6.01) ,  G02B 1/10 ( 200 6.01) ,  G02B 5/08 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C23C 14/34 M ,  G02B 1/10 Z ,  G02B 5/08 A

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 光学膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-345114   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 薄膜の製造方法および薄膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-073679   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 酸化物薄膜の成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-194329   出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (1件)

• 光学膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-345114   出願人：オリンパス光学工業株式会社