特許
J-GLOBAL ID：201103092769246229

ガス処理方法

発明者：
後藤 俊夫

後藤 俊夫 について

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堀 勝

堀 勝 について

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伊藤 昌文

伊藤 昌文 について

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石井 信雄

石井 信雄 について

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川上 聡

川上 聡 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について

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国立大学法人名古屋大学

国立大学法人名古屋大学 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-071928
公開番号（公開出願番号）：特開2000-269194
特許番号：特許第4258789号
出願日： 1999年03月17日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 真空容器内に処理ガスを供給して被処理基板に対して所定の処理を施すガス処理方法において、 真空容器内から採取したガスに対してフィラメントから電子を放出し、処理ガス中の粒子に当該電子を付着させてイオン化する工程と、 この工程により得られた粒子の負イオンを、直流電圧に高周波電圧を重畳した電圧が印加される質量分析手段の電極対の間に入射させ、直流電圧と高周波電圧との比を一定に保ちながら高周波電圧を変化させることにより、電極対を通過した各質量に対応する負イオンを検出器で検出する工程と、 前記検出器の検出結果に基づいて質量スペクトルを作成する工程と、 この質量スペクトルにおいてピークが得られる質量数から選別された質量数の負イオン毎に、それら負イオンが前記電極対の間で加速されるように前記直流電圧及び高周波電圧の値を設定し、前記フィラメントに供給する電圧を変えることにより当該フィラメントから放出される電子エネルギーを変化させ、この電子エネルギーの値と負イオンの個数の計数値とを対応付けたデータを取得し、このデータに基づいて負イオンの計数値のピーク値を求める工程と、 前記ピーク値に基づき、処理ガスの状態に影響を与えるプロセス条件をコントロールする工程と、を有し、 前記ピーク値は、真空容器内を移動可能なガス採取口により、被処理基板の面方向に沿った複数箇所の位置におけるガスを採取し、各位置におけるピーク値であることを特徴とするガス処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  G01N 27/62 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01)
FI (3件)：
H01L 21/302 103 ,  G01N 27/62 V ,  H01L 21/205
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (6件)
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