特許
J-GLOBAL ID：201103094495386633
流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-207523
公開番号（公開出願番号）：特開2011-071511
出願日： 2010年09月16日
公開日（公表日）： 2011年04月07日
要約：
【課題】投影システムの最終要素と基板との間の空間に液体を維持する流体ハンドリングシステムを提供する。【解決手段】液浸流体を封じ込める空間と流体ハンドリング構造の外部領域との間の境界に、第1の列に配置された複数の開口と、第2の列のアパーチャを有する第1のガスナイフデバイスと、第3の列の1つ又は複数の開口と、第4の列のアパーチャを有する第2のガスナイフデバイスとを有するリソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造が提供される。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、前記流体ハンドリング構造が、液浸流体を封じ込める空間と前記流体ハンドリング構造の外部領域との境界に、
使用時に、基板及び/又は前記基板を支持する基板テーブルへ向けて誘導される第1の列に配置された細長い開口又は複数の開口と、
第2の列の細長いアパーチャを有する第1のガスナイフデバイスと、
第3の列の細長い開口又は複数の開口と、
第4の列の細長いアパーチャを有する第2のガスナイフデバイスと、
を連続して有する流体ハンドリング構造。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB26
, 5F046DA27
