特許
J-GLOBAL ID：201103094516219015

マルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置

発明者：
石原 圭一郎

石原 圭一郎 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-328280
公開番号（公開出願番号）：特開2001-147388
特許番号：特許第4418567号
出願日： 1999年11月18日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 主走査方向及び副走査方向共に間隔を有して配置された複数の発光点を備えた光源手段と、前記複数の発光点から出射された複数の光束を偏向走査する偏向手段と、前記複数の発光点から出射された複数の光束を前記偏向手段に導く入射光学系と、前記偏向手段の偏向面にて偏向走査された複数の光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有するマルチビーム走査光学系であって、 前記入射光学系は、前記光源手段から順に、前記複数の発光点から出射された複数の光束の各々を集光する集光レンズと、前記複数の発光点から出射された複数の光束の各々の主走査方向の光束幅を決定する絞りと、を備え、 前記複数の光束のうち任意の光束を第一の光束MBAとし、前記第一の光束MBAに主走査方向において隣接し前記第一の光束MBAと前記被走査面上において主走査方向に同一位置に到達する光束を第二の光束MBBと定義した場合、前記第一の光束MBAが通過する前記結像光学系を構成する最も前記偏向手段に近い位置に配置された第1の結像光学素子の副走査方向の結像倍率をβ1a、前記第一の光束MBAが通過する前記結像光学系を構成する最も前記偏向手段に近い位置に配置された第1の結像光学素子よりも後側の光学系の副走査方向の結像倍率をβ1’a、前記第二の光束MBBが通過する前記結像光学系を構成する最も前記偏向手段に近い位置に配置された第1の結像光学素子の副走査方向の結像倍率をβ1b、前記第二の光束MBBが通過する前記結像光学系を構成する最も前記偏向手段に近い位置に配置された第1の結像光学素子よりも後側の光学系の副走査方向の結像倍率をβ1’b、前記被走査面上の副走査方向の画素密度A(dpi)、前記絞りから前記偏向手段の偏向面までの光路長をLap(mm)、前記光源手段の主走査方向の間隔をdms(mm)、前記集光レンズの主走査方向の焦点距離をfco(mm)、前記結像光学系のfθ係数をk(mm/rad)、としたとき、 を満足することを特徴とするマルチビーム走査光学系。
IPC (2件)：
G02B 26/10 ( 200 6.01) ,  G02B 26/12 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 E ,  G02B 26/10 103
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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