特許
J-GLOBAL ID：201103096443179527
フルチップ光源およびマスク最適化のためのパターン選択
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-235012
公開番号（公開出願番号）：特開2011-100121
出願日： 2010年10月20日
公開日（公表日）： 2011年05月19日
要約：
【課題】リソグラフィ装置およびプロセスで使用するために照明源およびマスクを最適化するためのツールを提供する。【解決手段】いくつかの態様によれば、本発明は、フルチップパターンのカバーを可能にし、一方、光源およびマスク最適化で使用しようとするクリップの完全な集合302から重要な設計パターンの小さな集合306をインテリジェントに選択することによって、計算コストを低減する。最適化は、最適化された光源を得るために、これらの選択されたパターンに対してのみ実施される。次いで、最適化された光源を使用し、(たとえばOPCおよび製造可能性検証320を使用して)フルチップに合わせてマスクを最適化し、プロセスウィンドウ性能結果が比較される(322)。結果が従来のフルチップSMOに匹敵する場合、プロセスが終了し、そうでない場合には、繰り返して好結果に収束するように、様々な方法が提供される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
設計の一部分を基板上に結像するためにリソグラフィプロセスを最適化する方法であって、
前記設計の前記一部分からパターンの部分集合を選択する工程と、
パターンの前記選択された部分集合を結像するために前記リソグラフィプロセスに合わせて照明源を最適化する工程と、
前記設計の前記一部分を最適化し前記リソグラフィプロセスにおいて結像させるために、前記最適化された照明源を使用する工程と
を含む方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F1/08 B
, G03F1/08 D
, H01L21/30 502G
, H01L21/30 514C
2H095BB02
, 2H095BB12
, 2H095BB33
, 2H095BB36
, 5F046AA17
, 5F046AA25
, 5F046AA28
