回折シグネチャ解析に基づく設計レイアウト内の最適なパターンの選択

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-235013
公開番号（公開出願番号）：特開2011-100122
出願日： 2010年10月20日
公開日（公表日）： 2011年05月19日
要約：

【課題】最適なパターンを使用し、リソグラフィイメージングのためのマスク最適化を行うことに関する。【解決手段】それぞれの回折マップが、設計レイアウトから、ターゲットパターンの最初のより大きな集合からの複数のターゲットパターンのそれぞれについて生成される。回折シグネチャが、様々な回折マップから識別される。複数のターゲットパターンが、様々な回折シグネチャグループにグループ化され、特定の回折シグネチャグループ内のターゲットパターンが同様の回折シグネチャを有する。ターゲットパターンの部分集合がリソグラフィプロセスのための設計レイアウトの少なくとも一部を表すように、可能な回折シグネチャグループすべてをカバーするようにターゲットパターンの部分集合が選択される。複数のターゲットパターンのグループ化は、回折シグネチャの類似性に基づいて、予め定義された規則によって決めることができる。予め定義された規則は、様々な回折シグネチャグループ間に存在する適用範囲関係を含む。【選択図】図9B

請求項（抜粋）：

リソグラフィプロセスを介して基板上に結像されるように構成された設計レイアウトからターゲットパターンの部分集合を選択する方法において、前記設計レイアウトから、ターゲットパターンの最初のより大きな集合からの複数のターゲットパターンについて、それぞれの回折マップを生成する工程と、ターゲットパターンの前記最初のより大きな集合からの前記複数のターゲットパターンの様々な回折マップから回折シグネチャを識別する工程と、ターゲットパターンの前記最初のより大きな集合からの前記複数のターゲットパターンを回折シグネチャグループにグループ化する工程であって、特定の回折シグネチャグループ内の前記ターゲットパターンが同様の回折シグネチャを有する、工程と、ターゲットパターンの代表集合がリソグラフィプロセスのための設計レイアウトの少なくとも一部を表すように、予め定義された数の回折シグネチャグループをカバーするようにターゲットパターンの代表集合である前記部分集合を選択する工程とを含む方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 7/20 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F1/08 A , G03F7/20 521 , H01L21/30 502P

Fターム (1件)：

2H095BB02

引用特許：

審査官引用 (4件)

照明及びレチクルの最適化により、印刷ラインの形状歪みを最小化するシステム及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-221243 出願人：キヤノン株式会社
ソースおよびマスクの最適化
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-132168 出願人：アスムルマスクツールズビー.ブイ.
照明及びレチクルの最適化により、印刷ラインの形状歪みを最小化するシステム及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-016872 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

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