特許
J-GLOBAL ID：201103098344638156
蒸着マスク、蒸着装置、薄膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
石島 茂男
, 阿部 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-029353
公開番号（公開出願番号）：特開2011-165581
出願日： 2010年02月12日
公開日（公表日）： 2011年08月25日
要約：
【課題】大型基板に対応可能な蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法を提供する。【解決手段】 蒸着マスク10上で開口部11をその中心間距離が基板50のピクセル51a1、51a2の中心間距離の2倍になるように形成する。この蒸着マスク10を基板50上に配置し、各ピクセル51a1、51a2、51axの上方に開口部11と遮蔽部19が交互に配置されるように位置合わせした状態で、開口部11と対面するピクセル51a1を成膜し、次いで蒸着マスク10をピクセル51a1、51a2の中心間距離だけ移動させ、移動前に遮蔽部19と対面していた未成膜のピクセル51a2、51axの上方に開口部11を位置させ、その状態で未成膜のピクセル51a2、51axに薄膜を成膜する。開口部11の間隔が従来より広いため、開口部11形成の際に蒸着マスク10が破損する虞を従来より低減でき、大型の蒸着マスク10の製作が容易になる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板上の同材料が成膜される複数のピクセルに蒸気が到達できるように構成された蒸着マスクであって、
一部の前記ピクセルに前記蒸気を通過する開口部を有し、
前記蒸着マスクの一方向に隣り合う前記開口部の中心間距離が、同材料で成膜され、かつ前記一方向に隣り合う前記ピクセルの中心間距離の複数倍である蒸着マスク。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, C23C 14/04
H05B33/10
, H05B33/14 A
, C23C14/04 A
3K107AA01
, 3K107CC35
, 3K107CC42
, 3K107CC45
, 3K107GG04
, 3K107GG32
, 3K107GG33
, 3K107GG54
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BB03
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029DB12
, 4K029HA01
, 4K029HA03
, 4K029KA01
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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