特許
J-GLOBAL ID：201103099915606806

光架橋性樹脂組成物

発明者：
豊田 裕二

豊田 裕二 について

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入澤 宗利

入澤 宗利 について

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金田 安生

金田 安生 について

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中川 邦弘

中川 邦弘 について


出願人/特許権者：
三菱製紙株式会社

三菱製紙株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-002322
公開番号（公開出願番号）：特開2011-141451
出願日： 2010年01月07日
公開日（公表日）： 2011年07月21日
要約：
【課題】表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。【解決手段】(a)表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性組成物を含有してなる光架橋性樹脂層を形成する工程、(b)アルカリ水溶液によって未硬化部の光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程、(c)回路パターンの露光工程、(d)現像工程を含むレジストパターンの作製方法で使用される光架橋性組成物が、ジアルキルアミノベンゼン構造を有する化合物を含有してなることを特徴とする光架橋性樹脂組成物。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
(a)表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂組成物を含有してなる光架橋性樹脂層を形成する工程、(b)アルカリ水溶液によって未硬化の光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程、(c)回路パターンの露光工程、(d)現像工程を含んでなるレジストパターンの作製方法で使用される光架橋性樹脂組成物において、 (A)カルボキシル基を含有するポリマー、(B)分子内に少なくとも1個の重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、(C)光重合開始剤、(D)重合禁止剤を含有してなり、(C)成分として、ジアルキルアミノベンゼン構造を有する化合物が(C)成分全体に対して4.0〜15質量%、かつ、光架橋性樹脂組成物に対して0.20〜0.60質量%含有されてなることを特徴とする光架橋性樹脂組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/031 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/029 ,  H05K 3/06 ,  C08F 2/46 ,  G03F 7/004
FI (6件)：
G03F7/031 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/029 ,  H05K3/06 H ,  C08F2/46 ,  G03F7/004 502
Fターム (53件)：
2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096DA04 ,  2H096EA04 ,  2H096FA05 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H125AC33 ,  2H125AC34 ,  2H125AC63 ,  2H125AD07 ,  2H125AD13 ,  2H125AD14 ,  2H125AD24 ,  2H125AM23P ,  2H125AM32P ,  2H125AN22P ,  2H125AN47P ,  2H125BA09P ,  2H125BA17P ,  2H125BA18P ,  2H125CA13 ,  2H125CB03 ,  2H125CC01 ,  2H125CC13 ,  4J011SA82 ,  4J011SA84 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  5E339AB02 ,  5E339AD01 ,  5E339AD03 ,  5E339AE01 ,  5E339BC02 ,  5E339BC03 ,  5E339BD03 ,  5E339BD06 ,  5E339BD07 ,  5E339BD08 ,  5E339BD11 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CD01 ,  5E339CE11 ,  5E339CF15 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339CG04 ,  5E339DD03 ,  5E339DD04
引用特許：
出願人引用 (3件)

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