特許
J-GLOBAL ID：200903047447967768

パターン形成方法

発明者：
樋口 令史

樋口 令史 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-365744
公開番号（公開出願番号）：特開2006-171515
出願日： 2004年12月17日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：
【課題】 配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能であり、しかも、高い解像度と基体と感光層との密着性とを高度に両立したパターン形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、プリベーク処理した後、該感光層に対し露光が行われることを特徴とするパターン形成方法。【選択図】 図39
請求項（抜粋）：
支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、プリベーク処理した後、該感光層に対し露光が行われることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (5件)：
G03F 7/38 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/20 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/38 501 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/20 505 ,  G03F7/40 521 ,  H01L21/30 566
Fターム (39件)：
2H025AA02 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025CA01 ,  2H025CA14 ,  2H025CA18 ,  2H025CA31 ,  2H025CA39 ,  2H025CA48 ,  2H025CB43 ,  2H025CB52 ,  2H025FA01 ,  2H025FA17 ,  2H025FA39 ,  2H025FA40 ,  2H025FA43 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096DA01 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H096HA17 ,  2H096HA27 ,  2H096JA02 ,  2H096JA04 ,  2H096LA16 ,  2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  2H097HA03 ,  2H097LA09 ,  5F046KA04
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)

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