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J-GLOBAL ID：201202205626259047   整理番号：12A1257348

定電流シャンティングアークプラズマの特性およびTiC膜生成

Characteristics of pulsed-dc shunting arc plasma and deposition of titanium carbide film

著者 (4件)： 三河遼太 (岩手大) ,  高橋和貴 (岩手大) ,  高木浩一 (岩手大) ,  行村建 (産業技術総合研)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-12  号： 29-48  ページ： 1-5  発行年： 2012年08月08日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ロッド材料に炭素,固定電極にチタンを用いたシャンティングアーク放電の放電電流を,IGBTスイッチ及び制限抵抗を用いて一定値に制御し,安定した炭素プラズマの生成を行った。生成したプラズマの放電形態の視覚的観測,分光機器を用いたプラズマ中のイオン種の同定及びダブルプローブを用い,電子温度,イオン密度を計測した。電子温度は時間的にほぼ一定の値を持った。イオン密度はピーク値に達した後時間経過により減少した。炭素プラズマを用いPBII&D法によるTiC膜の生成を行い,膜厚を計測した。成膜速度は数nm/min程度であった。

シソーラス用語： アーク放電 ,  *プラズマ生成 ,  プラズマ分光 ,  *プラズマ診断 ,  静電探針 ,  電子温度 ,  イオン密度 ,  温度測定 ,  *プラズマCVD ,  *薄膜成長 ,  *炭化チタン ,  膜厚 ,  電流制御 ,  *イオン注入
準シソーラス用語： IGBTスイッチ ,  *PBII法【プラズマ】 ,  シャンティングアーク放電 ,  炭素プラズマ ,  複探針 ,  放電プラズマ ,  放電電流

分類 (2件)： プラズマ生成・加熱  (BJ02060E) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (12件)：

• (1) Y. Benarioua, J. Lesage, E. Bempored, and D. Chicot:“Titanium carbide films obtained by conversion of sputtered titanium on high carbon steel", Surface & Coatings Technology Vol. 200, pp. 5447-5454 (2006)
• (2) M. Brama, N. Rhodes, J. Hunt, A. Ricci, R. Teghil, S. Migiaccio, C.Rocca, S. Leccisotti, A. Lioi, M. Scandurra, G. Maria, D. Ferro, F. Pu, G. Panzini, L. Politi, R. Scandurra: “Effect of titanium carbide coating on the osseointegration response in vitro and in vivo", Biomaterials Vol. 28, pp. 595-608 (2007)
• (3) E. Kusano, A. Satoh, M. Kitagawa, H. Nanto, A. Kinbara:“Titanium carbide film deposition by DC magnetron reactive sputtering using a solid carbon source", Thin Solid Films 343-344(1999)254-256
• (4) K. Takaki, T. Murakami, S. Mukaigawa, T. Fujiwara, and K.Yukimura:“Production of Titanium-Containing CarbonPlasma Using Shunting Arc Discharge for Hybrid Film Deposition", Japanese Journal of Applied Physics Vol.49 No. 046001, pp. 1-5(2010)
• (5) 門口敏秀,磯野僚多,吉岡健司,行村建,政宗貞夫:“カーボンシャンティングアークの発生とDLC生成",電学誌, Vol.119-A, No.5,pp.609-614

タイトルに関連する用語 (2件)： TiC ,  膜生成