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J-GLOBAL ID：201202206435119870   整理番号：12A0248695

プラズマに曝された高分子のナノ表面特性に及ぼすイオン及び紫外-真空紫外領域における光子による照射の効果

Effects of Irradiation with Ions and Photons in Ultraviolet-Vacuum Ultraviolet Regions on Nano-Surface Properties of Polymers Exposed to Plasmas

著者 (12件)： CHO Ken (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  CHO Ken (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  TAKENAKA Kosuke (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAKENAKA Kosuke (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  SETSUHARA Yuichi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SETSUHARA Yuichi (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  SHIRATANI Masaharu (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  SHIRATANI Masaharu (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  SEKINE Makoto (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SEKINE Makoto (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  HORI Masaru (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  HORI Masaru (JST-CREST, Saitama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 1,Issue 2  ページ： 01AJ02.1-01AJ02.5  発行年： 2012年01月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分子表面との,アルゴンプラズマからのイオン及び紫外(UV)及び真空紫外(VUV)領域における光子の相互作用を,従来のX線光電子分光(XPS)及び硬X線光電子分光(HXPES)によって,ポリ(エチレンテレフタレート)(PET)における化学結合状態の深さ分析により研究した。PET膜を,光学フィルタとしてのMgF₂及び石英ウインドウによりPET膜を被覆することにより,アルゴンプラズマに曝し,イオン及び光子による照射効果を比較した。従来のXPS結果は,酸素機能性(C-O結合及びO=C-O)が,表面からの約10nmまでの浅い領域におけるイオン衝撃により劣化するが,他方,UV及びVUV領域における光照射の効果はあまりないことを示した。HXPES分析は,イオン及び光子による照射が,表面から約50nmまでの深い領域における化学結合状態において深刻な損傷を引き起こさないことを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  *ポリエチレンテレフタレート ,  *プラズマ曝露 ,  表面 ,  イオン衝突 ,  *光子 ,  アルゴン ,  *相互作用 ,  X線光電子スペクトル ,  化学結合 ,  深さ分析 ,  フッ化マグネシウム ,  石英 ,  光学フィルタ ,  劣化 ,  光照射 ,  損傷
準シソーラス用語： *イオン衝撃 ,  ナノ表面 ,  硬X線光電子分光 ,  紫外領域 ,  真空紫外領域

分類 (4件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  イオンとの相互作用  (BK16070Z) ,  光化学一般  (CB08010U)

引用文献 (43件)：

• 1)H.Shirakawa and S. Ikeda:Polym. J.2(1971)231.
• 2)H.E. Katz, A. J. Lovinger, J.Johnson, C. Kloc, T. Siegrist, W. Li, Y.-Y. Lin, and A. Dodabalapur:Nature 404(2000)478.
• 3)V.M. Rusu, C.-H. Ng, M. Wilke, B, Tiersch, P. Fratzl, and M. G. Peter: Blomaterials 26(2005)5414.
• 4)B.M. Novak:Adv. Mater.5(1993)422.
• 5)M.-C.Choi, Y. Kim, and C.-S. Ha:Prog. Polym. Sci. 33(2008)581.

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ ,  高分子 ,  表面特性 ,  イオン ,  真空紫外領域 ,  光子