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J-GLOBAL ID：201202211395593968   整理番号：12A0121638

SF₆系プラズマ中の低温プラズマ増強原子層蒸着により成長させた窒化アルミニウムマスク層のプラズマエッチ特性

Plasma etch characteristics of aluminum nitride mask layers grown by low-temperature plasma enhanced atomic layer deposition in SF₆ based plasmas

著者 (7件)： PERROS Alexander (Dep. of Micro- and Nanosciences, Aalto Univ. School of Electrical Engineering, P.O. Box 13500, FI-00076 Aalto, FIN) ,  BOSUND Markus (Dep. of Micro- and Nanosciences, Aalto Univ. School of Electrical Engineering, P.O. Box 13500, FI-00076 Aalto, FIN) ,  SAJAVAARA Timo (Dep. of Physics, Univ. of Jyvaeskylae, P.O. Box 35, 40014, Jyvaeskylae, FIN) ,  LAITINEN Mikko (Dep. of Physics, Univ. of Jyvaeskylae, P.O. Box 35, 40014, Jyvaeskylae, FIN) ,  SAINIEMI Lauri (Dep. of Micro and Nanosciences, School of Electrical Engineering, Aalto Univ., P.O. Box 13500, FI-00076, Aalto, FIN) ,  HUHTIO Teppo (Dep. of Micro and Nanosciences, School of Electrical Engineering, Aalto Univ., P.O. Box 13500, FI-00076, Aalto, FIN) ,  LIPSANEN Harri (Dep. of Micro and Nanosciences, School of Electrical Engineering, Aalto Univ., P.O. Box 13500, FI-00076, Aalto, FIN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 30  号： 1  ページ： 011504  発行年： 2012年01月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低温,200°Cのプラズマ増強原子層蒸着(PEALD)により蒸着した窒化アルミニウム(AlN)のプラズマエッチ特性を,反応性イオンエッチ(RIE)及び誘導結合プラズマ反応性イオンエッチ(ICP-RIE)システムに対して,様々なエッチ条件下,SF₆とO₂の様々な混合体を使って調べた。RIE中,膜は10rnm/分以下のエッチ速度の良好なマスク特性を見せた。ICP-RIEプロセスでは,膜は低いプラテン電力でサブナノメートル領域の極めて低いエッチ速度を見せた。AlN膜の除去は物理機構を通して起こる。そのため,膜はSF_x⁺及びO⁺化学に不活性であるため,PEALD AlN膜除去においてrf電力とチェンバー圧力が最も重要なパラメータになる。このエッチ実験により,この膜は回復力があるマスキング材料であることを示した。これによって,これはスルーウエハエッチング,あるいは酸化膜が適切でないとき,必要なSF₆系プラズマエッチ応用でのエッチマスクに使う魅力的な候補になる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： フッ化硫黄 ,  化学蒸着 ,  *窒化アルミニウム ,  蒸着膜 ,  *RIE【エッチング】 ,  誘導結合プラズマ ,  酸素 ,  加工速度
準シソーラス用語： エッチ速度 ,  原子層蒸着 ,  六フッ化硫黄

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (9件)： SF6 ,  プラズマ ,  低温プラズマ ,  増強 ,  原子層蒸着 ,  成長 ,  窒化アルミニウム ,  マスク層 ,  プラズマエッチ