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J-GLOBAL ID：201202211905092187   整理番号：12A1465003

流体物理洗浄の概要と水蒸気二流体ジェットでの適用例

著者 (1件)： 真田俊之 (静岡大 工)
資料名： 産業洗浄  (Industrial Cleaning)
号： 10  ページ： 14-19  発行年： 2012年09月30日 
JST資料番号： L7969A  ISSN： 2188-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 物理洗浄とは,物理的作用を利用した洗浄手法で,超音波洗浄,噴流洗浄,ブラシ洗浄などがよく使われている。この流体物理洗浄の洗浄メカニズムと実際に適用する際に重要となるプロセスウィンドウについて,以下の項目に従って紹介した。1)流体物理洗浄とプロセスウィンドウ,2)水蒸気二流体ジェットにおける適用例,2-1)水蒸気と水の混合噴流の概要,2-2)プロセスウィンドウの再構築の実用例,2-3)太陽電池製造工程での適用例。

シソーラス用語： *超音波洗浄 ,  *噴流 ,  *洗浄 ,  *太陽電池 ,  許容範囲 ,  半導体プロセス ,  水蒸気 ,  *半導体素子
準シソーラス用語： ウォータジェット ,  プロセスウィンドウ ,  物理洗浄

分類 (3件)： 噴流  (BC02080F) ,  太陽電池  (NC03084O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (9件)：

• 1) 岩元勇人:次世代半導体デバイスにおける超精密洗浄技術.産業洗浄,No.2,14-17(2008)
• 2) 岡野勝一:太陽電池洗浄への超音波の適用.産業洗浄,No.6, 22-24 (2010)
• 3) TGKim,etal.:Quantitativemeasurementofpatterncollapse and particle removal force. ECS Transactions11 (2) , 123-129 (2009)
• 4) 真田俊之,ほか:水蒸気と水の混合噴流による洗浄技術.砥粒加工学会誌,55(8-11),640-643(2011)
• 5) 真田俊之,ほか:蒸気と水の二流体スプレーによる表面洗浄.空気清浄47(5),31-36(2010)

タイトルに関連する用語 (6件)： 流体物理 ,  洗浄 ,  概要 ,  水蒸気 ,  流体 ,  ジェット