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J-GLOBAL ID：201202218426833207   整理番号：12A1652772

超薄型Braggビームスプリッタのプラズマ化学的気化加工による作成

Fabrication of ultrathin Bragg beam splitter by plasma chemical vaporization machining

著者 (9件)： OSAKA T. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  YABASHI M. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  SANO Y. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TONO K. (Japan Synchrotron Radiation Res. Inst. (JASRI), Hyogo, JPN) ,  INUBUSHI Y. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  SATO T. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  MATSUYAMA S. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ISHIKAWA T. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  YAMAUCHI K. (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 523/524  ページ： 40-45  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマ化学的気化加工(PCVM)を用いた薄くて曲りのない,ロバストBraggビームスプリッタ用の作成工程を提案した。この工程で作成したSi(110)結晶デバイスの高結晶の完全性を,X線トポグラフィーとロッキングカーブの測定により検証した。さらに,測定した縞の周期から厚さを4.4μmと評価した。従って,高品質Braggビームスプリッタを厚さ4.4μmまで作成できたことになる。このスプリッタは,(331)反射より一オーダ高い反射を用いてエネルギー差なしにスプリッティング比1:1の二つのレプリカパルスを提供できる。この工程を用いて,低次反射の利用で半厚のBraggビームスプリッタの薄い結晶を作成できることを示した。

シソーラス用語： *超精密加工 ,  ビームスプリッタ ,  X線トポグラフィー ,  ロッキングカーブ
準シソーラス用語： *プラズマ化学的気化加工法

分類 (1件)： 特殊加工  (QC04000Y)

タイトルに関連する用語 (4件)： 超薄型 ,  ビームスプリッタ ,  プラズマ化学 ,  気化