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J-GLOBAL ID：201202222143675718   整理番号：12A1287369

高速プラズモニックナノリソグラフィーのための固体浸漬レンズを用いた近接場記録技術

Application of Solid Immersion Lens-Based Near-Field Recording Technology to High-Speed Plasmonic Nanolithography

著者 (9件)： PARK Kyoung-Su (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Taeseob (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Won-Sup (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  JOE Hang-Eun (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  MIN Byung-Kwon (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  PARK Young-Pil (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  YANG Hyunseok (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  KANG Sung-Mook (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  PARK No-Cheol (Yonsei Univ., Seoul, KOR)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 8,Issue 3  ページ： 08JF01.1-08JF01.7  発行年： 2012年08月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,固体浸漬レンズ(SIL)上の加工されたシャープリッジ・ナノ開口と正確で能動ナノギャップ制御アルゴリズムを用いた高速で高スループットのプラズモニックナノリソグラフィー技術を提案した。この高スループットを持つプラズモニックナノリソグラフィーは,10nmのオーダーの直径を持つ光スポットを作ることができ,サブm/sの速度のナノパターニングを行える。光学強度とスポットサイズに基づいて,シャープリッジ・アンテナの幾何学的パラメータを最適化することによって,光学高スループットヘッドを金属アルミニウム開口上に設計した。SILから発生したエバネセント場を用いて,プラズモニックSILは,フォトレジスト被覆したシリコンウエハ上で20nm以下の距離を保ち,摩擦無しに200mm/s以上の速度で移動することができた。この条件下で線のパターニングを行えた。130nmの線幅(半値全幅,FWHM)を持つパターニングを達成した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  レンズ ,  レーザ記録 ,  光磁気記録 ,  *技術 ,  光ヘッド ,  計測 ,  エバネセント波 ,  間隙
準シソーラス用語： ナノギャップ ,  *ナノリソグラフィー ,  *プラズモニクス ,  近接場記録 ,  固体浸漬レンズ ,  光学ヘッド ,  高スループット法

分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

引用文献 (24件)：

• 1) G.J. Leggett: Chem. Soc. Rev. 35 (2006) 1150.
• 2) J. Loos: Adv. Mater. 17 (2005) 1821.
• 3) S. Sun and G.J. Leggett: Nano Lett. 4 (2004) 1381.
• 4) B.W. Muir, A. Fairbrother, T.R. Gengenbach, F. Rovere, M.A. Abdo, K.M. McLean, and P.G. Hartley: Adv. Mater. 18 (2006) 3079.
• 5) I. Suez, M. Rolandi, S.A. Backer, A. Scholl, A. Doran, D. Okawa, A. Zettl, and J.M.J. Fréchet: Adv. Mater. 19 (2007) 3570.

タイトルに関連する用語 (2件)： 固体浸漬レンズ ,  近接場記録