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J-GLOBAL ID：201202226740163650   整理番号：12A1101719

ラジカルモニタリングに基づいた自律制御可能なプラズマエッチングシステム

An Autonomously Controllable Plasma Etching System Based on Radical Monitoring

著者 (12件)： TAKAHASHI Shunji (Katagiri Engineering Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  KAWAUCHI Ryota (COM Electronics Dev. Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  TAKASHIMA Seigo (Nagoya Urban Ind. Promotion Corp., Nagoya, JPN) ,  DEN Shoji (Katagiri Engineering Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  KATAGIRI Toshiro (Katagiri Engineering Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  KANO Hiroyuki (NU-Eco Engineering Co., Ltd., Aichi, JPN) ,  OHTA Takayuki (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  ITO Masafumi (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  SUZUKI Tatsuya (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TAKEDA Keigo (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  HORI Masaru (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  HORI Masaru (JST-CREST, Saitama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 7,Issue 1  ページ： 076502.1-076502.6  発行年： 2012年07月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマエッチング素子に対する最適条件は,一般に,外部パラメータ(例えば気体質量流量,気体混合比,反応チャンバ圧力またはプラズマ源出力)の変化の間における試料のエッチングの結果から決定できる。しかし,サブnmスケールでのゆらぎの少ない,制御されたエッチングを実現するには,外部パラメータと異なり,プロセス特性を直接決定する内部プラズマパラメータ(例えばラジカルおよびイオンの密度およびエネルギー)に基づいた,実時間での制御が可能なシステムの開発が重要である。著者らは,気相中および薄膜表面上でラジカルの積分監視を行う自律制御されたプラズマエッチングシステムを開発した。有機材料のエッチングレートは,実時間で得た水素および窒素ラジカル密度に基づいて,自律的に制御できたことを記した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマエッチング ,  最適条件 ,  *制御 ,  パラメータ ,  流量 ,  混合比 ,  混合気体 ,  圧力効果 ,  イオン密度 ,  エネルギー依存性 ,  密度依存性 ,  監視 ,  ラジカル ,  加工速度 ,  質量流量
準シソーラス用語： エッチングレート ,  *自律制御 ,  実時間制御

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (23件)：

• 1) M. Hon and T. Goto: Plasma Source Sci. Technol. 15 (2006) S74.
• 2) M. Hon and T. Goto: Appl. Surf. Sci. 253 (2007) 6657.
• 3) T. F. Edgar, S. W. Butler, W. J. Campbell, C. Pfeiffer, C. Bode, S. B. Hwang, K. S. Balaknshnan, and J. Hahn: Automatica 36 (2000) 1567.
• 4) R. Shadmehr, A. Angell, P. B. Chou, G. S. Oehrlem, and R. S. Jaffe: J. Electrochem. Soc. 139 (1992) 907.
• 5) D. W. Greve, T. J. Knight, X. Cheng, B. H. Krogh, and M. A. Gibson: J. Vac. Sci. Technol. B 14 (1996) 489.

タイトルに関連する用語 (2件)： 自律制御 ,  プラズマエッチング