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J-GLOBAL ID：201202238455434428   整理番号：12A1306336

光学素子作製への2重パターニング技術の応用:プロセスシミュレーション,作製,測定

Application of double patterning technology to fabricate optical elements: Process simulation, fabrication, and measurement

著者 (6件)： BABIN S. (Abeam Technologies, Inc., 5286 Dunnigan Ct., Castro Valley, California 94546) ,  GLUSHENKO G. (Abeam Technologies, Inc., 5286 Dunnigan Ct., Castro Valley, California 94546) ,  WEBER T. (Friedrich-Schiller-University Jena, Inst. of Applied Physics, Albert-Einstein-Strasse 15, D-07743, Jena, DEU) ,  KAESEBIER T. (Friedrich-Schiller-University Jena, Inst. of Applied Physics, Albert-Einstein-Strasse 15, D-07743, Jena, DEU) ,  KLEY E.-b. (Friedrich-Schiller-University Jena, Inst. of Applied Physics, Albert-Einstein-Strasse 15, D-07743, Jena, DEU) ,  SZEGHALMI A. (Max Planck Inst. of Microstructure Physics, Weinberg 2, Halle (Saale) D-06120, DEU)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 30  号： 3  ページ： 031605-031605-5  発行年： 2012年05月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2重パターニングは作製されたマイクロ及びナノ構造における空間分解能の向上のための重要な技術である。ここでは,回折光学素子の作製のための2重パターニング技術を研究し,適用した。多重ドライエッチ及び薄膜堆積のシミュレーションを行い,作製パターンの垂直形状を研究し,最適化した。エッチ条件と堆積条件を変えて得られる金属層垂直形状へのインパクトを研究した。特に,光学的性能に及ぼす初期レジスト線幅と格子頂上のプロセス誘起テーパー化の影響を調べた。形状可変電子ビームリソグラフィシステムを初期レジストパターンの作製に使用した。そうして2重パターニングの方法で空間周波数を倍増した。UV領域までの応用のために,フィーチャサイズ30nm,周期100nm,垂直アスペクト比約5:1の広帯域アルミニウム及びイリジウムワイヤ格子偏光子を作製した。設計された光学的特性を光学的測定で確認した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *光学素子 ,  *多重露光 ,  *パターン形成 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  ドライエッチング ,  薄膜成長 ,  微細構造 ,  ナノ構造 ,  プロセスシミュレーション ,  レジスト ,  アスペクト比 ,  アルミニウム ,  イリジウム ,  偏光子 ,  回折格子

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光学素子 ,  作製 ,  2重パターニング技術 ,  応用 ,  プロセスシミュレーション