トレンチ型の三次元微小素子構造上に均一に堆積するための開口部を備えた遮蔽板によるフォトレジストの吹き付け塗装

KUMAGAI Shinya; FUKUDA Naoya; TAJIMA Hisayoshi; SASAKI Minoru

文献

J-GLOBAL ID：201202239868181109 整理番号：12A0495426

トレンチ型の三次元微小素子構造上に均一に堆積するための開口部を備えた遮蔽板によるフォトレジストの吹き付け塗装

Photoresist Spray Coating Using a Shield Plate with an Aperture for Uniform Deposition onto Trench-Type Three-Dimensional Microdevice Structures

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資料名：
巻： 51 号： 2,Issue 2 ページ： 02BL04.1-02BL04.5 発行年： 2012年02月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

三次元(3D)のトレンチ構造上に均一に堆積するために,開口部を持つ遮蔽板を用いてフォトレジストの吹き付け塗装を試みた。試料上に配置された遮蔽板によって,開口領域以外における試料への堆積が阻止される。数値解析から,開口領域におけるガス流の縦方向への速度成分が増大することが分かった。吹き付け塗装に関する実験から,上部トレンチ表面と底部トレンチ表面に堆積されるレジスト膜の厚さの差が減少することが分かった。トレンチの側壁では,吹き付け塗装においてしばしば観測されるレジストの隆起の形成が抑制される。実験結果から,レジスト薄膜のプロフィルは等角で,均一になることが分かった。このような堆積法は,3Dの微小素子を実現するために必要である。誘電泳動法を用いたマイクロ流体素子において,上部トレンチ表面および底部トレンチ表面以外に,電極のような素子構造を作製するためにはトレンチの側壁が活用される。マイクロトレンチ構造内において,マイクロ/ナノスケールの物体の輸送を制御するために電気的相互作用が増大される。(翻訳著者抄録)

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固体デバイス製造技術一般

引用文献 (25件)：

1) D. Padmaraj, W. Zagozdzon-Wosik, L.-M. Xie, V. G. Hadjiev, P. Cherukuri, and J. Wosik: Nanotechnology 20 (2009) 035201.
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