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J-GLOBAL ID：201202243326853868   整理番号：12A1245869

極端紫外干渉リソグラフィーを使った高分解能のカゴメ格子構造の発生

Generation of high-resolution kagome lattice structures using extreme ultraviolet interference lithography

著者 (6件)： WANG Li (Lab. for Micro- and Nanotechnology, Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE) ,  TERHALLE Bernd (Lab. for Micro- and Nanotechnology, Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE) ,  GUZENKO Vitaliy A. (Lab. for Micro- and Nanotechnology, Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE) ,  FARHAN Alan (Lab. for Micro- and Nanotechnology, Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE) ,  HOJEIJ Mohamad (Lab. for Micro- and Nanotechnology, Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE) ,  EKINCI Yasin (Lab. for Micro- and Nanotechnology, Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 101  号： 9  ページ： 093104-093104-5  発行年： 2012年08月27日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 回折に基づく極端紫外干渉リソグラフィーを使って,特徴サイズが最低サブ50nm領域に達する高分解能のカゴメ格子構造を作製した。得られた多重ビームの干渉パターンは干渉ビームの相対位相に敏感であった。それらの位相の正確な制御は,高性能の電子ビームリソグラフィーツールを使って,マスク上の透過回折格子の正確な位置決めによって実現した。紹介した方法は,フラストレートした磁気系,フォトニック結晶,及びプラズモニクスの研究に使う高分解能で大きい面積のカゴメ格子構造を得る応用が見いだせる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 格子 ,  *リソグラフィー ,  極端紫外線 ,  フォトリソグラフィー ,  高分解能 ,  干渉縞 ,  位相 ,  電子ビームリソグラフィー ,  マスク ,  回折格子 ,  フラストレーション効果 ,  結晶 ,  技術 ,  フォトニック結晶
準シソーラス用語： *カゴメ格子 ,  *干渉リソグラフィー ,  *極端紫外線リソグラフィー ,  EUVマスク ,  プラズモニクス

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 極端紫外 ,  干渉リソグラフィー ,  高分解能 ,  カゴメ格子