薄膜電子技術応用のためのZnOのリモートプラズマ励起原子層堆積

文献

J-GLOBAL ID：201202251298746000 整理番号：12A1524967

Remote plasma enhanced atomic layer deposition of ZnO for thin film electronic applications

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巻： 97 ページ： 162-165 発行年： 2012年09月
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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