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J-GLOBAL ID：201202258322384062   整理番号：12A0867529

低密度rfプラズマ中の160GHzガウス分布ビームマイクロ波干渉測定

160 GHz Gaussian beam microwave interferometry in low-density rf plasmas

著者 (3件)： DITTMANN K (Univ. Greifswald, DEU) ,  KUELLIG C (Univ. Greifswald, DEU) ,  MEICHSNER J (Univ. Greifswald, DEU)
資料名： Plasma Sources Science and Technology  (Plasma Sources Science and Technology)
巻： 21  号： 2  ページ： 024001,1-7  発行年： 2012年04月 
JST資料番号： W0479A  ISSN： 0963-0252  CODEN： PSTEEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： RF放電はプラズマ処理に広く応用されている。プラズマの特性を支配する電子の密度分布を高感度で測定するため,160GHzマイクロ波のガウス分布ビームを用いた干渉計を用い,電子密度10¹⁶m^-3,位相差に換算して0.3°以下の測定感度を実現した。このためには,マイクロ波周波数と光学機器の機械的特性の高い安定性が要求される。干渉計は160.28GHz,波長1.87mmの周波数安定化(位相同期ループ)ヘテロダインシステムシステムで構成される。特別に設計したホーンアンテナと楕円鏡を用い,準光学的配位を形成する。空間分解能は約10mm,時間分解能は0.2μsである。非対称電極配位容量結合放電プラズマに適用した測定では,測定下限位相差は0.01°,電極面内で平均した電子密度に換算して5×10¹⁴m^-3である。

シソーラス用語： *RF放電 ,  *高周波放電 ,  干渉計 ,  プラズマ診断
準シソーラス用語： ガウス分布ビーム ,  *マイクロ波干渉計 ,  *電子密度測定 ,  *容量結合放電

分類 (3件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  プラズマ装置  (BJ02082I) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 低密度 ,  RFプラズマ ,  ガウス分布 ,  ビーム ,  マイクロ波 ,  干渉測定