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J-GLOBAL ID：201202261629765340   整理番号：12A0626709

半導体触媒上での電気がアシストするメタンの接触酸化的カップリング

Catalytic Oxidative Coupling of Methane Assisted by Electric Power over a Semiconductor Catalyst

著者 (6件)： TANAKA Keisuke (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.) ,  SEKINE Yasushi (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.) ,  OSHIMA Kazumasa (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.) ,  TANAKA Yoshitaka (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.) ,  MATSUKATA Masahiko (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.) ,  KIKUCHI Eiichi (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.)
資料名： Chemistry Letters  (Chemistry Letters)
巻： 41  号： 4  ページ： 351-353 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： La₂O₃半導体触媒上におけるメタンの酸化的カップリング(OCM)を周囲温度423Kで研究した。触媒層中の二つの電極から供給された直流電力により,Sr-La₂O₃(Sr/La=1/200及び1/20)上で,C₂H₆及びC₂H₄の安定で選択的な生成が行われた。しかし,ドーピングなしのLa₂O₃の触媒上では,プラズマ反応が進行した。この反応を制御するためには,半導体触媒の電気伝導率が重要である。C2(49%の選択率,51.3%のO₂転換率)が高収率で得られた。低い周囲温度(423K)で,2.7Wの電力を用いてC2化合物が高収率(49%の選択率,51.3%のO₂転換率)で得られた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化的カップリング ,  *アルカン ,  化合物半導体 ,  *酸化ランタン ,  ドーピング ,  ストロンチウム ,  プラズマ化学反応 ,  電気伝導率 ,  触媒調製 ,  表面積 ,  X線回折 ,  結晶構造 ,  触媒活性 ,  電気化学インピーダンス ,  Nyquist線図 ,  Bode線図 ,  電場効果 ,  *接触酸化 ,  アルケン ,  脂肪族アルコール ,  脂肪族カルボン酸 ,  ヒドロキシ酸 ,  ポリカルボン酸
準シソーラス用語： プラズマ反応 ,  交流インピーダンス法

分類 (3件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  アルカン  (CF03020I) ,  酸化,還元  (CF02060T)

物質索引 (4件)： エタン ,  エチレン ,  クエン酸 ,  メタン

引用文献 (23件)：

• AIKA, K.-i. J. Phys. Chem. 1977, 81, 1393
• AIKA, K.-i. J. Phys. Chem. 1978, 82, 1794
• LIN, C.-H. J. Phys. Chem. 1986, 90, 534
• LUNSFORD, J. H. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1995, 34, 970
• OTSUKA, K. J. Catal. 1986, 100, 353

タイトルに関連する用語 (4件)： 触媒 ,  アシスト ,  メタン ,  酸化的カップリング