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J-GLOBAL ID：201202262121479585   整理番号：12A1711879

極端条件下での材料剪断係数の干渉法測定のためのリソグラフィー作製格子

Lithographically fabricated gratings for the interferometric measurement of material shear moduli under extreme conditions

著者 (10件)： GLEASON Arianna E. (Geological & Environmental Sciences Dep., Stanford Univ., Stanford, California 94305) ,  TIBERIO Richard C. (Stanford Nano-Patterning Center, Stanford Univ., Stanford, California 94305) ,  MAO Wendy L. (Geological & Environmental Sciences Dep., Stanford Univ., Stanford, California 94305) ,  ALI Suzanne (Dep. of Chemistry, Univ. of California, Berkeley, Berkeley, California 94720) ,  BOLME Cynthia A. (Shock and Detonation Physics, Los Alamos National Lab., Los Alamos, New Mexico 87544) ,  LAZICKI Amy (Shock Physics, Lawrence Livermore National Lab., Livermore, California 94550) ,  BORDONARO Garry (Cornell Nanofabrication Facility, Cornell Univ., Ithaca, New York 14853) ,  TREICHLER John (Cornell Nanofabrication Facility, Cornell Univ., Ithaca, New York 14853) ,  GENOVA Vincent (Cornell Nanofabrication Facility, Cornell Univ., Ithaca, New York 14853) ,  EGGERT Jon H. (Shock Physics, Lawrence Livermore National Lab., Livermore, California 94550)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 30  号： 6  ページ： 06F306-06F306-6  発行年： 2012年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子ビームリソグラフィー及びフォトリソグラフィーを用いて,レーザ駆動衝撃波実験のためのターゲット上に,回折格子を作製した。このターゲット設計を,光干渉測定システムとともに用いて,動的(衝撃波)圧縮中のターゲットの横波運動を測定した。楔形ダイヤモンド基板及び試料表面上の反射格子は,横運動の検出を可能にした。単結晶〈100〉Si試料に関する原理実証試験は,5GPaにおける5.9km/sの横波速度及び81GPaの剪断係数を与えた。この実験設計は,地球中心核条件における純鉄の剪断特性の測定の可能性も含めて,大きな可能性を示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *剪断係数 ,  *干渉測定 ,  *回折格子 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  *フォトリソグラフィー ,  衝撃波 ,  横波 ,  ターゲット ,  光干渉 ,  ダイヤモンド ,  基板 ,  楔形 ,  *ケイ素 ,  単結晶
準シソーラス用語： シリコン

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  干渉測定と干渉計  (BD07070G)

タイトルに関連する用語 (5件)： 剪断係数 ,  干渉法 ,  リソグラフィー ,  作製 ,  格子