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J-GLOBAL ID：201202265907046479   整理番号：12A0703684

電子ビームマスク描画装置EBM-8000

EBM-8000 Electron Beam Mask Writer for Mask Fabrication in Manufacturing of Semiconductor Devices of 22 nm Node and Beyond

著者 (2件)： 吉武秀介 (ニューフレアテクノロジー) ,  斉藤匡人 (東芝)
資料名： 東芝レビュー  (Toshiba Review)
巻： 67  号： 4  ページ： 20-23  発行年： 2012年04月01日 
JST資料番号： F0360A  ISSN： 0372-0462  CODEN： TORBA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体デバイス製造用のリソグラフィを支える重要な要素であるマスクは,主に電子ビーム描画装置により製造されている。マスク製造プロセスにおいて描画装置は,CADなどのツールを用いて電子設計された回路図面を,電子回路の原版となるマスクという形に具現化している。特に電子ビームは,電磁的な制御により照射位置や照射形状の高速切替えが可能であるという特性を生かし,長年にわたりマスク作成用のリソグラフィ手段として使用されてきた。(株)ニューフレアテクノロジーは,東芝で開発されたベクタスキャン型で可変成形方式の電子ビーム描画技術を基に,精度と生産性に優れる電子ビームマスク描画装置EBMシリーズを開発し提供している。今回,ハーフピッチ(hp)22nm世代に必要なマスクの製造用に最新機種のEBM-8000を開発した。パターンの微細化と複雑化に伴う生産性の低下を克服し,この世代のマスクに要求される厳しいパターンの寸法精度と位置精度を達成した世界唯一の描画装置である。2010年に東芝向け初号機を納入し,先端的な半導体デバイスの製造に貢献している。(著者抄録)

シソーラス用語： *フォトマスク ,  装置 ,  電子ビーム ,  *電子ビームリソグラフィー ,  CAD【計算機】 ,  *回路パターン形成
準シソーラス用語： *描画装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (10件)：

• (1) Dusa, M. Pitch Doubling Through Dual Patterning Lithography Chal-lenges in Integration and Litho Budgets. Proc. SPIE. 6520, 2007, p.65200G.1-65200G.10.
• (2) ITRS.“International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) 2010”. <http://www.itrs.net/>, (accessed 2012-01-19).
• (3) Yoshitake, S. Resolution capability of EBM-6000 and EBM-7000 for nano-imprint template. Proc. SPIE. 7470, 2009, p.74700H-1-74700H-7.
• (4) Sunaoshi, H. Key improvement schemes of accuracies in EB mask writing for double patterning lithography. Proc. SPIE. 6792, 2008, p.679208-1-679208-7.
• (5) Kamikubo, T. Study of heating effect on CAR in electron beam mask writing. Proc. SPIE, 6607, 2007, p.660723.1-660723.9.

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子ビーム ,  マスク ,  描画装置 ,  EBM