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J-GLOBAL ID：201202271202988920   整理番号：12A0115227

マルチラミネート法によるマイクロピラーで構築されたマイクロポリマーカプセル

Micro Polymer Capsule Constructed with Micro Pillars Formed by Multi Laminating Method

著者 (2件)： YAMADA Masayoshi (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  KAWAI Akira (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 24  号： 6  ページ： 647-650  発行年： 2011年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 環スタックマルチラミネート法で,エポキシ系ネガ型レジスト(SU-8 3050)フィルムをガラス基質に450μm厚みにスピンコーティングし,プリベーク/フォトマスクをつけた後UV照射/ポスト照射ベーク,次に18環状層を積層(上部環は幅150μm,厚み50μm,長さ360~650μmのマイクロピラー付き)して接着ベーク後HF水溶液でガラス基質から遊離させて,マイクロピラーパターンを持つポリマーカプセルを得た。カプセル内側で乱流を起こすよう56本のマイクロピラーを持つ長さ6.5mm,最大直径4.0mm,入り口および出口径0.8mm,壁厚み1.0mmの機能性マイクロポリマーカプセルが得られた。マイクロポンプや液体混合などの用途が考えられた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *マイクロカプセル ,  微細構造 ,  積層構造 ,  レジスト ,  *エポキシ樹脂 ,  スピンコーティング ,  紫外線照射 ,  熱処理 ,  微視力学 ,  フォトレジスト ,  *フォトレジストSU-8 ,  露光後ベーク
準シソーラス用語： *SU-8 ,  UV照射 ,  *ネガレジスト ,  *マイクロピラー ,  マイクロメカニクス ,  露光後ベーキング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (5件)：

• 1. Anum Azam, Sensors and Aactuaters73, B 141 (1999) 14-23.
• 2. Manhee Han, Sensor and Actuators A 111, (2004) 14-20.
• 3. V, Kudryashov, Microelectronic Engineering. 67-68 (2003) 306-311.
• 4. Laura Rowe, The Royal Society of Chemistry 2007, Lab Chip 7 475-482.
• 5. A. Kawai, Daisuke Tanaka, J.Photopolym. Sci. Technol. 21 (2008) 43-46.

タイトルに関連する用語 (4件)： マルチ ,  ラミネート法 ,  マイクロピラー ,  構築